提起真空等离子清洗机，它不分处理对象，可处理不同的基材，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料都可用等离子体很好地处理，因此，特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。那么，关于它的清洗过程是怎样的呢？今天小编就来说说吧
真空等离子清洗机整个清洗过程大致如下：
1、被清洗的工件送入真空式并加以固定，启动运行装置，开始排气，使真空室内的真空程度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要几分钟。
2、向真空室内引入等离子清洗用的气体，并保持腔内压强稳定。根据清洗材质的不同，可分别使用氧气、氩气、氢气、氮气、四氟化碳等气体。
3、在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压，使气体被击穿，并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体，让在真空室产生的等离子体笼罩住被处理工件，开始清洗作业，一般清洗处理持续几十秒到几十分钟不等。
4、清洗完毕后切断电源，并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出。
上述就是小编对于真空等离子清洗机的清洗过程的介绍！相信大家应该已经有所了解了，今天小编就给大家介绍这么多，如果大家还有什么不明白，小编会随时为您解答！