等离子清洗技术已经逐渐渗透到我们的生活和工作中，并悄悄地改变了人们的生活质量。随着等离子表面处理技术的快速发展，清洗机已广泛应用于光学玻璃、汽车制造、纺织面料、电子电器、包装印刷、塑料加工、化妆品等行业。

　　

　　等离子体的清洗方式分为化学清洗、物理清洗和物理加化学清洗。对于不同的清洁对象，可选择O2、H2和Ar等艺术气体进行短时间表面处理。

　　

　　一、什么是化学反应清洗：

　　

　　它采用等离子中的高活性自由基和材料表层的有机物进行化学反应，采用氧气清洗，使非挥发性有机物变成挥发性形式，产生二氧化碳，一氧化碳和水。化学清洗的优势是清洗速度高，选择性好，对清洗有机污染物质更有效的。

　　

　　主要缺点是产生的氧化物可能会在材料表层再次形成。在导线键环节中，氧化物这一些缺点可以通过适当的工艺参数来避免。

　　

　　二、什么是物理反应清洗：

　　

　　利用等离子中的离子进行纯物理冲击，清除附着在材料表层的原子，氩气用于清洁，氩气用足够的能量轰击器件表层，足以清除产品表面的污垢。例如：聚合物中的大分子被分离成小分子并蒸发，并通过真空泵排出。

　　

　　同时，氩气等离子清洗后，可以改变材料表层的微观形式，使材料在分子级范围内变得更加粗糙，可以大大提高表面活性，提升表层的粘结性能。

　　

　　氩气等离子的优势是清洁材料表层不会留下任何氧化物。缺点是过度腐蚀或污染物质颗粒可能在其他不希望区域重新积累，但这一些缺点可以通过详细调整工艺参数来控制。

　　

　　三、在清洗过程中，可同时清洗物理化学进行反应：

　　

　　物理反应和化学反应在清洗中起着关键作用。如果在线等离子清洗环节中采用O2混合气体，反应速率比单独采用Ar或O2快。氩离子加速后，产生的动能可以提升氧离子的反应能力，因此物理化学方法可以清除污染严重的材料表层。